適用場合

1.半導體製程

2.光學鍍膜

3.塗層塗佈

4.雷射元件

5.光學鏡片

6.航太複合材料

7.製藥與生物科技

8.氣體乾燥

9.真空鍍膜

10.電池電芯

11.粒子加速實驗室